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復(fù)納科技邀您相聚2023年全國(guó)電子顯微學(xué)學(xué)術(shù)年會(huì)

瀏覽次數(shù):2062 發(fā)布日期:2023-10-26  來(lái)源:本站 本站原創(chuàng),轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處

2023 年全國(guó)電子顯微學(xué)學(xué)術(shù)年會(huì)將于 10 月 26 日 - 30 日在東莞市會(huì)展國(guó)際大酒店召開。來(lái)自五湖四海的專家學(xué)者將齊聚一堂,共赴這場(chǎng)電鏡人的年度盛會(huì)。

本屆年會(huì)將展示顯微學(xué)相關(guān)儀器理論、技術(shù)和實(shí)驗(yàn)方法的最新進(jìn)展,學(xué)術(shù)交流內(nèi)容包括:高分辨掃描電子顯微學(xué)、原位顯微學(xué)技術(shù)及應(yīng)用、球差校正透射電子顯微學(xué)及應(yīng)用、微束分析、掃描探針顯微學(xué)(包括 STM、AFM 等)、低溫電子顯微學(xué)和激光共聚焦顯微學(xué)等。

我們將攜飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī) Phenom ProX 現(xiàn)場(chǎng)展出,歡迎各位蒞臨 4 樓【4-22】飛納電鏡展臺(tái)測(cè)試體驗(yàn),共同探討交流顯微技術(shù)!

會(huì)議時(shí)間2023 年 10 月 26 日 - 30 日(26 號(hào)報(bào)到,30 號(hào)離會(huì))
會(huì)議地點(diǎn):東莞會(huì)展國(guó)際大酒店

 

展位一:復(fù)納科技 3-04


展位二:飛納電鏡 4-22



復(fù)納科技分會(huì)報(bào)告


周丹 博士
應(yīng)用科學(xué)家、產(chǎn)品市場(chǎng)經(jīng)理 
DENSsolutions B.V.   

 

在本次會(huì)議中,周丹博士將帶來(lái)《復(fù)納科技攜手 DENSsolutions: 重塑透射電鏡原位表征技術(shù)與服務(wù)的新標(biāo)準(zhǔn)》的主題報(bào)告
報(bào)告時(shí)間: 10 月 28 日 14:40-15:00

報(bào)告地點(diǎn): 3 樓第 2 分會(huì)場(chǎng)


在體驗(yàn)復(fù)納科技豐富產(chǎn)品的同時(shí),我們還為大家準(zhǔn)備了一系列有趣好玩的活動(dòng)!歡迎大家蒞臨【4-22】【3-04】展臺(tái)積極參與互動(dòng)!

 


關(guān)于復(fù)納科技
復(fù)納科技致力于引進(jìn)世界先進(jìn)的分析測(cè)試科學(xué)儀器與核心技術(shù)解決方案, 聚焦于高分辨掃描電子顯微學(xué)與原位顯微學(xué)技術(shù),助力生命科學(xué)和材料科學(xué)的研究。

1. 
Phenom 飛納臺(tái)式掃描電鏡
飛納作為全球領(lǐng)先的桌面掃描電子顯微鏡,操作簡(jiǎn)單,成像速度快且質(zhì)量高,受到了眾多研究者的青睞。最新發(fā)布的 Pharos STEM 是全球唯一臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射 SEM-STEM 電子顯微鏡,為材料領(lǐng)域的研究提供了高效、全面的表征方式。

 

2. Technoorg Linda 離子研磨儀
Technoorg Linda 離子研磨儀是一種高精度的 SEM/TEM 樣品制備設(shè)備。具有高精度加工、可定制性強(qiáng)、高效率和可重復(fù)性制備無(wú)損傷、無(wú)機(jī)械應(yīng)力樣品表面的優(yōu)勢(shì),是有力的材料制備工具。

3. DENSsolutions 原位樣品桿
DENS 產(chǎn)品可以為原位 TEM 樣品施加外界刺激,捕捉 TEM 樣品在真實(shí)環(huán)境下的動(dòng)態(tài)現(xiàn)象。目前提供的四種原位實(shí)驗(yàn)方案:Wildfire TEM 原位加熱方案、Lightning TEM 原位熱電方案、Climate TEM 原位氣相加熱方案和 Stream TEM 原位液相加熱/加電方案,為各學(xué)科領(lǐng)域在相關(guān)條件下研究各種材料和工藝開辟了前所未有的可能性。

4. NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT
NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT 掃描系統(tǒng)對(duì)場(chǎng)地要求少、免維護(hù)、具備高空間分辨率。能夠真實(shí)再現(xiàn)材料內(nèi)部結(jié)構(gòu),在材料研究、失效分析、工藝優(yōu)化中已經(jīng)成為不可替代的測(cè)試手段。

5. Forge Nano 原子層沉積
ALD 技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高精度及均勻包覆,能夠有效提升材料性能與使用壽命。Forge Nano 針對(duì)粉末類材料比表面積大的特點(diǎn),采用流化床技術(shù)實(shí)現(xiàn)粉末材料的流化,從而保證前驅(qū)體與粉末實(shí)現(xiàn)充分的接觸,可實(shí)現(xiàn) kg 級(jí)粉末批量包覆,是工業(yè)生產(chǎn)前最理想的研發(fā)工具。

6. VSParticle 納米沉積系統(tǒng)
VSP-P1 納米印刷沉積系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)具有獨(dú)特性能的無(wú)機(jī)納米結(jié)構(gòu)材料的打印直寫。印刷涂層的顆粒由 VSP-G1 納米粒子發(fā)生器產(chǎn)生,經(jīng)火花燒蝕產(chǎn)生的氣溶膠顆粒其典型粒徑在 20nm 以下,且不含表面活性劑或任何其他有機(jī)添加物質(zhì)。納米粒子生產(chǎn)和印刷沉積的整個(gè)過(guò)程是完全自動(dòng)化的,不需要進(jìn)行后續(xù)有機(jī)成分的熱處理去除。

相關(guān)公司:復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司
聯(lián)系電話:400-857-8882
E-mail:cici.yang@phenom-china.com



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