CNI v2.1-納米壓印機

CNI v2.1是一種非常靈活的納米壓印機。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置，體積小，容易存放，最大可處理Ø100毫米（4英寸）所有形狀和格式的印章和基板。該系統(tǒng)是手動裝卸印章和基板，但所有處理器都是全自動的，專用軟件用戶可以完全控制壓印過程。
 
納米壓印機特色：

• 體積小巧，容易存放，桌面型；
• 輕微復(fù)制微米和納米級結(jié)構(gòu)；
• 熱壓印溫度高達(dá)200°C；
• 可選的高溫模塊，適用于240°C；
• UV 納米壓印，365nm曝光
• 真空納米壓�。ㄇ皇铱沙檎婵罩�0.1毫巴）；
• 納米壓印壓力高達(dá)10巴；
• 溫度分布均勻、讀數(shù)精準(zhǔn)；
• 筆記本電腦全自動控制，工藝配方編輯簡單，完全靈活控制，自動記錄數(shù)據(jù)；
• 直徑最大100毫米（圓形）腔室；
• 腔室高度為20毫米，可擴展至45毫米；
• 即插即用
• 使用簡單直觀
• 專為研發(fā)而設(shè)計
• 提供安裝和操作教程視頻

 
納米壓印機應(yīng)用：過去五年中，石墨烯的氣體傳感器引起了極大的興趣，顯示出單分子檢測。
最近的研究表明，與非圖案化層相比，石墨烯的圖案化強烈地增加了靈敏度。
通過標(biāo)準(zhǔn)程序生長CVD石墨烯，然后轉(zhuǎn)移到Si/SiO 2基板上進(jìn)行進(jìn)一步處理。 如（Mackenzie，2D Materials，[http://dx.doi.org/10.1088/2053-1583/2/4/045003]中所述，使用物理陰影掩模和激光燒蝕來定義接觸和器件區(qū)域。
使用軟壓印在CNI v2.0中進(jìn)行熱納米壓印光刻，將mr-I7010E壓印抗蝕劑在130℃，6巴壓力下壓印10分鐘，壓力在70℃下釋放。
通過反應(yīng)離子蝕刻將邊緣到邊緣間隔為120-150nm的大面積圖案的孔轉(zhuǎn)移到石墨烯中，并且用丙酮除去殘留的抗蝕劑。
發(fā)現(xiàn)器件具有大約的載流子遷移率發(fā)現(xiàn)器件在加工前具有約2000cm2/Vs的載流子遷移率，之后具有400cm2/Vs的載流子遷移率處理，同時保持整體低摻雜水平。