真空快速退火爐AS-Micro

AS-Micro是一款適用于實(shí)驗(yàn)室研究的真空快速退火爐，性能卓越。
可處理從幾平方毫米到3英寸直徑或正方形的基板。
可搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。
最高溫度1250 ℃，最快升溫速率250℃/Second。
全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過(guò)沖，控溫精度準(zhǔn)確。
擁有雙腔室，避免交叉污染。
 
應(yīng)用：

• 快速熱退火
• 植入退火
• 歐姆接觸退火
• 快速熱氧化（RTO）

• 快速熱氮化（RTN）
• 石墨烯快速熱化學(xué)氣相沉積

 
產(chǎn)品特點(diǎn)：
1、 紅外鹵素?zé)艄芗訜�，冷卻采用風(fēng)冷（低噪音水平，無(wú)需壓縮空氣）；
2、加熱由功率控制而非電壓控制，避免了由于燈絲老化電阻改變導(dǎo)致的后續(xù)使用中加熱不均的問(wèn)題，保證了良好的重現(xiàn)性及均溫性，即使在后續(xù)使用過(guò)程中更換了部分新的燈管也可以達(dá)到最初的熱處理效果；
3、石英腔體，腔體冷卻采用水冷，冷壁設(shè)計(jì)，雙層不銹鋼；
冷壁水冷技術(shù)優(yōu)點(diǎn)在于：1、無(wú)記憶，2、工藝重復(fù)性高，3、冷卻速度快；
4、反應(yīng)腔室的設(shè)計(jì)，氣體的進(jìn)入口設(shè)計(jì)在wafer的表面，避免在退火過(guò)程中冷點(diǎn)的產(chǎn)生。很好的保證了樣品在加熱過(guò)程中的均溫性；
5、快速數(shù)字PID控溫；
6、熱電偶設(shè)計(jì)上采用中間和邊緣安裝模式，測(cè)試的樣品的溫度，控溫精準(zhǔn)；
7、大氣和真空工藝均適合，凈化氣體配針閥；
8、最多3工藝氣體，配數(shù)字質(zhì)量流量控制器；
9、電腦通過(guò)以太網(wǎng)連接更快的數(shù)據(jù)傳輸速度；
10、可選配石墨托盤(pán)表面涂SiC薄膜設(shè)計(jì)，用于小樣品測(cè)試；
11、可選配分子泵，用于高真空測(cè)試；
12、可選配雙腔體設(shè)計(jì), 達(dá)到高潔凈工藝，避免交叉污染。
 
產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)配置及規(guī)格參數(shù)：
1、樣品最大尺寸：3-inch；
2、紅外鹵素?zé)簦?支； 最大功率：15KW；
3、紅外鹵素?zé)衾鋮s方式：風(fēng)冷；
4、溫度范圍：室溫~1250 ℃；
5、升溫速率：0.1 ℃~250 ℃/s ；
6、溫度控制：快速數(shù)字PID控制；
7、熱電偶：2N型熱電偶；
8、工藝氣體氣路配質(zhì)量流量計(jì)：壓力：2bars，最多可配置3路；  
9、配置真空泵及真空規(guī)：真空度：10e-3 Torr；（分子泵選配10e-6 Torr）
10、樣品腔室尺寸（單室）：700*700*700mm (W*D*H)；凈重82Kg；
樣品腔室尺寸（雙室）：700*700*1825mm (W*D*H)；凈重142Kg；