Merck AZ光刻膠

AZ®4500系列
具有最佳粘附力的厚光刻膠
特點：
AZ ® 4500系列（AZ ® 4533和AZ ® 4562）是正性厚光刻膠，在普通濕法蝕刻和電鍍工藝中具有優(yōu)良的粘附性能：
l  優(yōu)化對所有常見基材的附著力
l  寬廣的工藝參數(shù)窗口，可實現(xiàn)穩(wěn)定且可重復的光刻工藝
l  與所有常見的顯影液兼容（基于KOH或TMAH）
l  與所有常見的去膠劑兼容（例如AZ100去膠劑、有機溶劑或堿性溶劑）
l  對g，h和i線敏感（約320-440 nm）
l  光刻膠厚度范圍約 3-30微米
AZ ® 4500系列（AZ ® 4533和AZ ® 4562）的溶劑濃度不同，可達到的光刻膠膜厚有較大的范圍：

光刻膠型號	光刻膠膜厚范圍	包裝規(guī)格
AZ ® 4533	轉(zhuǎn)速為4000 rpm時，膜厚約為3.3 µm；通過改變轉(zhuǎn)速，膜后可達2.5-5 µm。	多規(guī)格包裝，如1L、2.5L等
AZ ® 4562	轉(zhuǎn)速為4000 rpm時，膜厚約為3.3 µm；通過改變轉(zhuǎn)速，膜后可達4.5-10 µm；調(diào)整旋轉(zhuǎn)輪廓（中等旋涂速度下短時間旋涂），可達30 µm膜厚。	多規(guī)格包裝，如1L、2.5L等

 
若光刻膠膜厚度 30 µm？
通常，AZ®4562可以用來涂覆厚度達30微米及以上。然而，在該厚度范圍內(nèi)，軟烘烤、曝光、顯影等變得非常耗時。此外，如果涂得太厚，AZ®4562也可能在曝光期間形成N2氣泡。 因此，對于厚度大于30 µm的光刻膠膜厚度，強烈建議使用化學放大的AZ®40 XT光刻膠。
 
顯影液——適用于AZ ® 4500光刻膠
如果可以使用含金屬離子的顯影液，可使用1：4稀釋的KOH基AZ®400K作為顯影液（對于更高的光刻膠膜厚度，可用1：3.5 - 1：1的稀釋濃度）。
如果必須使用不含金屬離子的顯影液，我們建議使用基于TMAH基的AZ®326 MIF，AZ®726 MIF或AZ®826 MIF顯影劑（未稀釋）。
 
去膠劑——適用于AZ ® 4500光刻膠
對于非交聯(lián)的光刻膠薄膜，可以使用AZ®100作為去膠劑，DMSO或其他常見的有機溶劑作為剝離劑。 如果光刻膠膜已交聯(lián)（例如，在干法蝕刻等離子工藝或離子注入時，> 140°C的高溫步驟時），我們建議使用不含NMP的TechniStrip P1316作為去膠劑。
 
 
 
 
 
 
 
 
產(chǎn)品數(shù)據(jù)表
一般信息
該系列正性光刻膠適用于要求涂層厚度大于3 µm的應用。當使用厚度大于3 µm的標準光刻膠時，所需的曝光能量會急劇增加。這是由于光活性化合物（PAC）在光譜的光化范圍內(nèi)的吸收。因此，隨著膜厚度的增加，必須調(diào)整曝光劑量以在光致抗蝕劑的底部也提供足夠的能量，否則圖案不能被清除。在極端情況下，幾乎不可能正確地曝光抗蝕劑，必須施加高于1000 mJ /cm²的曝光劑量。在這些條件下，還會出現(xiàn)不希望的副作用：光致抗蝕劑表面的劑量變得過高，并導致抗蝕劑發(fā)生交聯(lián)。此效果類似于眾所周知的深紫外硬化，該硬化用于在最高200°C的烘烤后溫度下保持抗蝕劑輪廓。標準抗蝕劑還會在曝光過程中產(chǎn)生過多的氮，這會困在厚層中，不能足夠快地擴散，并可能導致抗蝕劑浮起。
 
對于AZ 4500系列光刻膠，我們選擇了一種特殊的光敏化合物，該化合物具有低吸收性和較低的氮含量，因此這些光刻膠的使用厚度可達50 µm。 最高粘度的產(chǎn)品AZ 4562允許一步涂（2000 rpm）旋涂10 µm。 對于更高的厚度，必須采用特殊的涂層技術：
 

• 大約30-40秒的通用旋轉(zhuǎn)時間減少到只有3秒。 以此獲得20 µm，但是必須將基板水平放置在旋轉(zhuǎn)器上一分鐘，以便干燥。

 

• AZ 4562可以在其間進行多次烘烤循環(huán)涂覆。 由于該抗蝕劑的高固體含量接近溶解極限，因此下層涂料僅會溶解很少。 中間的烘烤溫度不應超過90°C或最終的預烘烤溫度。

 
當使用高膜厚時，必須遵守一些特殊準則：涂完抗蝕劑后，應將其在室溫下保持至少15分鐘，以使大部分溶劑蒸發(fā)，然后將其放入烤箱進行預烘烤。 否則，抗蝕劑表面將很快干燥，殘留在主體中的殘留溶劑可能會形成氣泡并抬起抗蝕劑膜。 結(jié)果是粘合失敗。 使用電爐代替烤箱是更好的選擇，尤其是當溫度上升到最終值時。
 
高膜厚也必須采用顯影工藝：為此的背景是這樣的事實，即即使是過度曝光的正性光刻膠也只能具有有限的溶解速率。 在大約100 nm / s的值處存在飽和。 為此，建議以約2 µm / min的顯影速度運行。 并調(diào)整曝光劑量以達到適當?shù)那宄�效果和特征尺寸�?br />  
該抗蝕劑系列設計用于任何常見的鈉和鉀基顯影劑。 用水稀釋1：4的AZ 351B是不錯的選擇，也可以使用AZ 400K。

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