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SU-8光刻膠
英文名稱:MicroChem Negative Epoxy Resists總訪問:2226
國(guó)產(chǎn)/進(jìn)口:進(jìn)口半年訪問:83
產(chǎn)地/品牌:MicroChem產(chǎn)品類別:其他生物試劑
規(guī)       格:SU-8 2000 SU-8 3000 最后更新:2022-4-7
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MicroChem環(huán)氧樹脂抗蝕劑由化學(xué)放大的環(huán)氧基負(fù)性抗蝕劑組成,它們具有高度功能性,光學(xué)透明性和
可接近UV(365nm)輻射的可成像。固化膜或微結(jié)構(gòu)是對(duì)溶劑非常抵扣的,酸和堿以及具有優(yōu)異的熱穩(wěn)
定性和機(jī)械穩(wěn)定性,使其非常適合制造永久性結(jié)構(gòu),如像素墻,流體通道和噴嘴,微陣列和間隔物。
 
SU-8 2000永久環(huán)氧樹脂
SU-8 2000化學(xué)放大,i線抗蝕劑非常適合制造永久性器件結(jié)構(gòu)。 這些負(fù)色調(diào),環(huán)氧基抗蝕劑表現(xiàn)出優(yōu)
異的耐化學(xué)性和低的楊氏模量,使其成為制造微/納米結(jié)構(gòu)的理想選擇,如懸臂,膜和微通道。
 
材料的使用:
PDMS模具制造
結(jié)構(gòu)部件,如微流體通道,顯示像素陣列,墻壁和介電層
干蝕刻掩膜
快速成型

材料屬性:
旋涂薄膜從< 1µm>75µM
耐高溫和耐化學(xué)性好
光學(xué)透明
兼容i-Line成像設(shè)備
 
SU-8負(fù)色光刻膠
SU-8是一種高對(duì)比度,環(huán)氧基光致抗蝕劑,專為微加工和其他微電子應(yīng)用而設(shè)計(jì),其中需要厚的化學(xué)
和熱穩(wěn)定圖像。 膜的暴露和隨后的交聯(lián)部分變得不溶于液體顯影劑。 SU-8在360nm以上具有非常高
的光學(xué)透明度,這使得它非常適用于在非常厚的膜中垂直側(cè)壁附近成像。 SU-8最適合于成像,固化
和放置的永久性應(yīng)用。
 
材料的使用:
MEMS器件
PDMS成型
噴墨噴嘴
微流體

材料屬性:
具有近垂直側(cè)壁的高縱橫比成像
近紫外(350-400nm)處理
膜厚為2〜200μm,單層旋涂法
高超的耐化學(xué)性和耐溫性
 
SU-8 3000
SU-8 3000已被配制用于改進(jìn)的粘合性和降低的涂層應(yīng)力。它被用于需要高結(jié)合強(qiáng)度和改進(jìn)的微結(jié)構(gòu)
制造柔性的地方。 結(jié)果,大大提高了與基板的粘合性。
材料的使用:
波導(dǎo)
微流體
郵票
材料屬性:
改善附著力
降低涂層應(yīng)力
垂直側(cè)壁
單層涂膜厚度大于100μm
優(yōu)異的耐干蝕刻電阻
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