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| 銷售商： 邁可諾技術(shù)有限公司 | 查看該公司所有產(chǎn)品 >> |
mr-NIL210 有機可光固化的NIL抗蝕劑，具有出色的干法刻蝕特性。它具有出色的固化和納米壓印性能，特別適用于使用軟印模材料（例如PDMS）的軟NIL。
特征：
1）在空氣中（存在氧氣）也具有出色的固化性能
2）對各種基材（如硅，石英或鋁）具有出色的干法刻蝕穩(wěn)定性
3）純有機抗蝕劑，固化后可通過氧等離子體去除殘留物
應(yīng)用領(lǐng)域
1）蝕刻掩模，用于圖案轉(zhuǎn)印工藝（干法和濕法蝕刻）
2）納米結(jié)構(gòu)的制造
3）LED，光子晶體
4）圖案藍(lán)寶石襯底（PSS）
5）微電子學(xué)
6）有機電子產(chǎn)品（OLED，OPV，OTFT）
處理步驟
旋涂 3000 rpm 持續(xù)30 s
預(yù)烤 60°C持續(xù)180 s
烙印溫度 室內(nèi)溫度
壓印壓力 > 100毫巴
輻射強度 mr-NIL210-100nm：100 mW cm -2
mr-NIL210-200nm：50 mW cm -2
mr-NIL210-500nm：50 mW cm -2
可根據(jù)要求提供定制的膜厚，最大2 µm
MR-I T85系列
熱塑性NIL抵抗劑 基于非極性環(huán)烯烴共聚物（TOPAS）的T-NIL抗蝕劑（Tg = 85°C）
特征：
1）用于制造微流體或芯片實驗室設(shè)備的薄膜厚度可能高達(dá)5 µm
2）100％有機熱塑性塑料→可以使用純氧等離子體進行干法蝕刻和剝離
3）在紫外線/可見光范圍內(nèi)具有最高的光學(xué)透明度，并具有針對不同溶劑，酸和堿的獨特化學(xué)穩(wěn)定性
應(yīng)用領(lǐng)域
芯片實驗室系統(tǒng)
1）生物應(yīng)用 4）波導(dǎo)
2）微流控 5）單層和多層系統(tǒng)
3）微光學(xué)元件 6）用于圖案轉(zhuǎn)印過程的掩模
處理步驟
玻璃化溫度 85°攝氏度
烙印溫度 130 – 150°C
壓印壓力 5 – 20巴
適用于各種膜厚（3000 rpm）*
mr-I T85-0.3 300 nm
mr-I T85-1.0 1.0 µm
mr-I T85-5.0 5.0 µm
*可根據(jù)要求提供定制的膜厚
手機版：納米壓印膠
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