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電子束和深紫外靈敏；非常適合作為刻蝕掩模，極好的抗干刻、濕刻性能；光刻膠圖案良好的熱穩(wěn)定性；優(yōu)異的圖案分辨率-80 nm以下；堿性水溶液下顯影；
應用領(lǐng)域 用于微電子和納米電子、半導體器件制造、蝕刻掩膜
ma-N 2400系列的用于電子束和深紫外光刻
1)高分辨率（〜40-50 nm）
2)堿性水顯影
3)抗蝕劑圖案具有良好的熱穩(wěn)定性
4)高耐干濕蝕刻性
5)容易移除
MR-EBL 6000系列用于電子束光刻
1)抗蝕劑圖案具有出色的熱穩(wěn)定性
2)高耐干濕蝕刻性
3)高分辨率（〜40-50 nm）
4)需要曝光后烘烤（PEB）
電子束和深紫外靈敏；非常適合作為刻蝕掩模，極好的抗干刻、濕刻性能；光刻膠圖案良好的熱穩(wěn)定性；優(yōu)異的圖案分辨率-80 nm以下；堿性水溶液下顯影；
應用領(lǐng)域 用于微電子和納米電子、半導體器件制造、蝕刻掩膜
規(guī)格：250ml
手機版：電子束光刻膠
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