供應(yīng)湛江工業(yè)超純水設(shè)備

 工業(yè)超純水設(shè)備
工業(yè)超純水設(shè)備工藝：
　  半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
1.1 工藝流程
　 對(duì)各種因素的認(rèn)真分析考慮，結(jié)合甲方的實(shí)際現(xiàn)場(chǎng)情況和要求及以往工程經(jīng)驗(yàn)，采用以原水預(yù)處理 + 超純水制備 + 超純水循環(huán)處理為主體的高純水處理工藝，出水完全可以達(dá)到電子工業(yè)1級(jí)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

其工藝流程如下：
原水 → 原水箱 → 原水泵→ 加絮凝劑裝置→ 雙介質(zhì)過濾器 → 活性炭過濾器 
→板式換熱器→加阻垢劑裝置→5μm保安過濾器 →一級(jí)高壓泵 → 一級(jí)反滲透膜組 
→ 加堿裝置→ 二級(jí)高壓泵 → 二級(jí)反滲透膜組 → 中間水箱 →中間水泵→
紫外線殺菌燈→去TOC紫外燈 → 脫氧膜組 → EDI裝置 → 一級(jí)拋光混床 
→ 超純水箱→ 超純水泵→ 板式換熱器→二級(jí)去TOC紫外燈→二級(jí)脫氧膜組
→ 增壓泵 → 二級(jí)拋光混床 → 終端過濾器 → 超純水使用點(diǎn)。
1.2 工藝系統(tǒng)簡述
本系統(tǒng)分三部分即原水預(yù)處理、超純水制備、超純水循環(huán)處理。各部分功能簡述如下：
1.3預(yù)處理
    預(yù)處理主要目的是去除原水中的懸浮物、膠體、硬度、有機(jī)物和余氯等妨礙后續(xù)反滲透運(yùn)行的雜質(zhì)。處理設(shè)施包括原水箱、原水泵、反洗水泵、板式換熱器、雙介質(zhì)過濾器、活性炭過濾器、絮凝劑加藥系統(tǒng)。
1.4雙介質(zhì)過濾器
    雙介質(zhì)過濾器主要去除水中的懸浮物和膠體。通過在其進(jìn)水管道投加PAC絮凝劑，采用微絮凝過濾方式，使水中大部分懸浮物和膠體變成微絮體在雙介質(zhì)濾層中截留而去除，雙介質(zhì)過濾器共采用1臺(tái)。雙介質(zhì)過濾器的反洗可根據(jù)運(yùn)行時(shí)間來決定反洗。
1.5活性炭過濾器
活性炭過濾器主要去除水中的有機(jī)物和余氯，系統(tǒng)采用1臺(tái)活性炭過濾器.
1.6板式換熱器
    板式換熱器利用蒸汽加熱，使反滲透進(jìn)水溫度保持在25℃以上，防止因水溫過低造成反滲透膜產(chǎn)水量不足。
1.7超純水的制備
    超純水的制備包括加阻垢劑裝置、二級(jí)反滲透裝置、EDI裝置、脫氧膜組、去TOC紫外燈、拋光混床、超純水箱。
1.8加阻垢劑裝置
    由于反滲透膜脫鹽裝置為溶解固形物濃縮排放和淡水的利用，根據(jù)原水水質(zhì)分析報(bào)告,為了防止?jié)馑�端，特別是RO壓力容器中最后一根膜元件的濃水側(cè)出現(xiàn)諸如CaCO3、CaSO4濃度積大于其平衡溶解度指數(shù)而結(jié)晶析出，從而損壞膜元件的應(yīng)用特性，因此在進(jìn)入膜元件之前設(shè)置了阻垢劑投加裝置。該裝置由計(jì)量箱、計(jì)量泵組成。
    經(jīng)過計(jì)算，阻垢劑選用美國有機(jī)復(fù)合阻垢劑，投加量1-2mg/l。該阻垢劑為高效分散劑，對(duì)碳酸鈣結(jié)垢在不加酸的條件下LSI最大允許值為2.8。同時(shí)對(duì)水中硫酸鹽的結(jié)垢，以及水中含有Ba2+、Sr2+等鹽份的結(jié)垢都有很好的控制作用。

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