Micro - x獨(dú)特的金剛石陽極
-------加快成像
在進(jìn)入今天的帖子討論Micro - x獨(dú)特的金剛石陽極以及它如何加快成像應(yīng)用程序之前,這里有一些背景閱讀:
本文中我們跟蹤了X射線從管內(nèi)生成到x射線探測器單個像素上的檢測路徑。我們討論了x射線到達(dá)探測器的概率,我們了解到如果你增加x射線的生成能量,那么你就減少了拍攝x射線圖像所需的時間。
那么,如果您想將圖像采集時間減半該怎么辦呢?應(yīng)該就像打開電源一樣簡單,對吧?和所有x光的問題一樣,答案是肯定的,但是……,我們從下面幾個方向入手討論一下這個問題。
功率載荷
在這種情況下,“但是”是對目標(biāo)造成傷害的能量加載。光斑尺寸越小,功率在目標(biāo)磁盤內(nèi)的集中程度越高。如果你曾經(jīng)在夏天玩過放大鏡,你就會熟悉這個概念。
放大鏡將均勻分布在玻璃直徑上的太陽光線聚焦,當(dāng)與地面保持適當(dāng)距離時,將這些光線聚焦到一個非常小而明亮的焦點(diǎn)上。那些均勻分布在放大鏡直徑上的光線,在大約半小時后可能會造成輕微的曬傷,而當(dāng)這些光線集中在一個小焦點(diǎn)上時,現(xiàn)在有可能在幾秒鐘內(nèi)引發(fā)火災(zāi)并融化蠟筆。你可以調(diào)整放大鏡的焦點(diǎn)光斑,通過改變幾何光學(xué)(在空間中上下移動放大鏡)來產(chǎn)生一個非常小而明亮的光斑,或者更小而不那么明亮的光斑。
類似地,電子束中的能量通過靜電光學(xué)被集中到x射線管陽極的焦點(diǎn)上。電子束的功率以W表示,焦點(diǎn)光斑的尺寸以微米表示。我們可以將兩者分開得到功率負(fù)載因子,以瓦特/微米(W/μm)表示。這可以被認(rèn)為是斑點(diǎn)的“亮度”。如果增加光束功率但保持光斑大小不變,則亮度增加。同樣,如果減小光斑尺寸但保持功率不變,也會增加亮度。那么,為什么不制造一個無限小的點(diǎn),用你的探測器所能承受的zui大功率呢?
目標(biāo)材料選擇
無損目標(biāo)(左)和凹痕目標(biāo)(右)的x射線點(diǎn)可視化
根據(jù)靶材的特性,靶面在失效前可以承受或多或少的功率。當(dāng)目標(biāo)失效或出現(xiàn)點(diǎn)蝕時,光斑的強(qiáng)度會損壞目標(biāo)材料,并在目標(biāo)盤上燒出一個洞,一直燒到陽極基板上,這將使光斑中的通量強(qiáng)度降低到其值的一小部分。上面的圖像顯示了一個未損壞的目標(biāo)和一個凹痕目標(biāo)在相同的尺度上——注意,在未損壞目標(biāo)的光斑中心的光斑強(qiáng)度實(shí)際上超過了探測器的16k計(jì)數(shù),而凹痕目標(biāo)的zui大強(qiáng)度低于6k計(jì)數(shù)。這是因?yàn)橹行膠ui亮的點(diǎn)已經(jīng)燒穿了目標(biāo)圓盤,不再產(chǎn)生x射線;叵胍幌挛覀兊姆糯箸R例子,同樣大小的焦點(diǎn)在放大鏡下可以燒傷皮膚,導(dǎo)致紙張燃燒,但絕對不會對混凝土造成損害。區(qū)別不在于聚焦光斑的功率,而在于聚焦光斑所聚焦的材料的耐用性。
不同的x射線靶材料都有不同的性質(zhì)。鎢(W)是一個常見的x射線目標(biāo),因?yàn)樗粌H產(chǎn)生干凈的軔致輻射剖面,而且它碰巧是一種具有高熔點(diǎn)的相當(dāng)耐用的金屬。相反,金(Au)在某些XRF應(yīng)用中產(chǎn)生非常有用的峰值,但它是一種軟金屬,相對較暗的焦點(diǎn)(即低功率負(fù)載)會對目標(biāo)材料造成損害,導(dǎo)致如此低的可實(shí)現(xiàn)計(jì)數(shù)率,以至于在除zui專業(yè)的應(yīng)用之外的所有應(yīng)用中都抵消了它的好處。
因?yàn)閃是成像應(yīng)用中常見的目標(biāo)材料選擇,所以我們將重點(diǎn)關(guān)注W目標(biāo)源。標(biāo)準(zhǔn)W靶x射線管的功率載荷為1W/μm。當(dāng)功率超過1W/μm時,該光斑產(chǎn)生的功率過大,目標(biāo)無法處理,目標(biāo)磁盤將被損壞,有時在幾秒鐘內(nèi)就會損壞。Micro - X-Ray開發(fā)了一種獨(dú)特的目標(biāo)材料結(jié)構(gòu),使用金剛石襯底將熱量從斑點(diǎn)轉(zhuǎn)移到陽極,比標(biāo)準(zhǔn)目標(biāo)結(jié)構(gòu)更有效。這使得我們的功率負(fù)載比非金剛石支持的目標(biāo)增加50%,允許1.5W/μm的功率負(fù)載數(shù)。
更高的功率負(fù)載支持更快的圖像
這一切意味著什么?如果我們還記得第1部分,你接觸到的光子越多,你得到圖像的速度就越快。例如,如果你需要1000萬個光子來撞擊你的探測器,你可以通過增加50%的功率來提高50%的速度。有了我們的菱形目標(biāo),你就可以做到這一點(diǎn),并更快地積累你的1000萬個計(jì)數(shù),以提高你的線速度。
或者,如果您在流程中有固定的時間來拍攝圖像,該怎么辦?我們的鉆石靶也可以提供幫助,通過讓您減少焦點(diǎn)光斑尺寸,同時保持功率一致。這將在您定義的處理時間內(nèi)產(chǎn)生更高分辨率的圖像。
微x射線金剛石陽極產(chǎn)品
我們的Microbox集成x射線源和我們的Seeray水冷x射線管都包含我們獨(dú)特的鎢/金剛石陽極技術(shù)。
Microbox操作范圍,zui大功率
就Microbox而言,這使我們能夠以業(yè)界領(lǐng)xian的1.5W/μm功率負(fù)載運(yùn)行,從而實(shí)現(xiàn)比競爭對手更快、更清晰的圖像。無論您是對在給定光斑尺寸下zui大化功率感興趣,還是對在給定曝光時間內(nèi)zui大化分辨率感興趣,Microbox的1.5W/μm功率負(fù)載將為您提供與市場上任何其他Microfocus源相比可測量的改進(jìn)。
就Seeray而言,我們的金剛石陽極技術(shù)與獨(dú)特的直接水冷陽極相結(jié)合。這允許與Microbox源相同的1.5W/μm功率負(fù)載,而直接陽極冷卻允許光束功率達(dá)到100W或更高。直接陽極冷卻還可以實(shí)現(xiàn)超快的光束穩(wěn)定時間,使其成為x射線光學(xué)耦合和單晶XRD的理想射線管。
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