釉面瓷磚防滑處理:微觀結(jié)構(gòu)和形貌的修飾
Elisa Rambaldi, PhD 1 Barbara Mazzanti 1
2014年5月14日
瓷器是一種制造工藝與物理機械性能完美結(jié)合的產(chǎn)物。盡管它具有優(yōu)良的技術(shù)特點,但其防滑性能差異很大,這取決于瓷磚的終飾面:粗糙的還是光滑的、上釉的還是拋光的。為了降低在已鋪設(shè)瓷磚上滑倒的風(fēng)險,市場上已推出若干種表面處理方法。大部分的處理方法涉及到酸或酸性物質(zhì)(氫氟酸或氟化氫銨),這些化學(xué)品均可腐蝕陶瓷表面。
眾多文獻探討了釉面瓷磚微觀結(jié)構(gòu)在酸性或堿性環(huán)境中的修飾[1–3]。幾篇論文提及將化學(xué)腐蝕用作防滑處理方法,考慮到安全方面的問題,但未深入研究陶瓷表面特性[4–5]。深入了解瓷磚表面微觀結(jié)構(gòu)、形貌和紋理參數(shù),將非常有助于評估酸處理是否會產(chǎn)生防滑表面而未損壞陶瓷制品。
表面形貌是瓷磚表面非常重要的特征。目前測量表面參數(shù)的儀器多種多樣。一般而言,測量技術(shù)分為兩類:(a)接觸式,(b)非接觸式。接觸式探針式表面輪廓儀應(yīng)用最普遍,但近年來開發(fā)出了非接觸式表面輪廓儀,比如共聚焦和干涉顯微鏡,目前正在廣泛使用。如今,新一代測量工具的應(yīng)用,促進了傳統(tǒng)及高級陶瓷制品表面紋理的定性和定量表征。瓷磚表面一般使用探針式二維表面輪廓儀進行分析,但二維測量結(jié)果通常不足以準確描述表面。
本文對兩種商業(yè)釉面瓷磚防滑處理前后的表面進行研究分析。目的是探明其防滑性與其表面微觀結(jié)構(gòu)、三維形貌及表面紋理參數(shù)之間是否具有相關(guān)性[6]。
實驗
研究兩種化學(xué)和礦物成分類似但終飾面不同的釉面瓷磚:瓷磚A表面不均勻、粗糙,而瓷磚B表面均勻、光滑。商用防滑表面處理方法使用基于氫氟酸的溶液,按照制造商說明將該溶液涂在瓷磚表面(手工),然后瓷磚A靜置1分鐘,瓷磚B靜置30秒。對A、B兩種瓷磚表面處理前后的樣品(“A未處理”和“A已處理”,“B未處理”和“B已處理”)進行表面表征。
使用下列分析方法在微觀尺度上研究瓷磚表面處理造成的影響:
由于研究旨在評估表面處理對瓷磚防滑性能的影響,因此根據(jù)以下標準開展測試:DIN 51130[7]和DIN 51097[8]。這些標準所載方法通常稱為斜坡測試,即一人穿鞋或赤腳走在傾斜表面上。斜面也可以涂上潤滑劑,比如油、肥皂水、凈水等。按照這些標準,測試人員在其上覆蓋受試瓷磚的平坦表面上來回走動,同時逐漸增加表面傾斜度?梢赃x擇干凈的表面,或者涂上潤滑劑。對測試人員開始下滑的傾斜角進行測定。
結(jié)果
表1按豐富程度順序顯示“A未處理”和“B未處理”瓷磚樣品表面上的礦物相。兩種樣品的XRD圖也表明存在大量的非結(jié)晶相,這是瓷磚組成的特征。
表1:瓷磚A和B未處理樣品的礦物組成。
樣品 |
礦物相 |
---|---|
“A未處理” |
石英、斜長石、鋯石(痕量) |
“B未處理” |
石英、斜長石、鋯石、剛玉(痕量) |
圖1顯示“A未處理”和“B未處理”樣品表面的SEM-EDS元素顯微分析結(jié)果。本文未報告已處理樣品表面所做的同樣顯微分析的結(jié)果,因為檢測發(fā)現(xiàn)其元素組成與未處理樣品沒有顯著差異。
圖1:瓷磚A和B未處理樣品表面的EDS光譜:“A未處理”[滿刻度 = 251點](a),“B未處理”[滿刻度 = 686點](b)。 |
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圖2~5顯示瓷磚A和B未處理和已處理樣品的典型SEM顯微圖。通過比較這些顯微圖(未處理樣品與已處理樣品相比較),可以推斷出,表面處理蝕刻非晶相并使表面上存在的礦物(結(jié)晶)相在顯微圖上凸顯出來[2–3]。
圖2:低放大率下拍攝的瓷磚A未處理和已處理樣品表面的典型SEM顯微圖:“A未處理”(a)和“A已處理”(b)。 |
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圖3:高放大倍率下拍攝的瓷磚A未處理和已處理樣品表面的SEM顯微圖:“A未處理”(a)和“A已處理”(b)。 |
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圖4:低放大率下拍攝的瓷磚B未處理和已處理樣品表面的典型SEM顯微圖:“B未處理”(a)和“B已處理”(b)。 |
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圖5:高放大倍率下拍攝的瓷磚B未處理和已處理樣品表面的SEM顯微圖:“B未處理”(a)和“B已處理”(b)。 |
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用10倍物鏡共聚焦顯微鏡拍攝了兩種瓷磚A樣品(“A未處理”和“A已處理”)表面上一個區(qū)域(分別為2.93×2.2mm)的圖像。圖6中,“A未處理”和“A已處理”樣品的圖像為其表面形貌3D圖,其中Z范圍比色刻度尺以微米(µm)為單位。
通過比較圖像,發(fā)現(xiàn)兩種瓷磚A樣品沒有顯著的形態(tài)差異。圖6中兩個同樣區(qū)域的輪廓圖(見圖7)展示出表面上不同點的代表性水平曲線,這些點在微米尺度上具有相同的高度水平。從圖上可知,兩種樣品不同點的水平曲線具有類似的形狀。對于在每個被分析區(qū)域測得的粗糙度參數(shù),其相關(guān)高度值也沒有實質(zhì)性差異(見表2)。
圖6:瓷磚A未處理和已處理樣品表面一個區(qū)域的帶Z范圍比色刻度尺的3D共聚焦顯微鏡圖像(10×物鏡):“A未處理”[5.8mm×4.4mm×130.8μm](a)和“A已處理”[5.8mm×4.4mm×141.6μm](b)。 |
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圖7:圖6a和6b所示瓷磚A未處理和已處理樣品表面區(qū)域的帶Z范圍比色刻度尺的輪廓圖:“A未處理”(a)和“A已處理”(b)。 |
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表2:圖6所示瓷磚A未處理或已處理樣品表面的一些涉及高度的粗糙度參數(shù)值(高斯截止濾光片:0.25mm)。
ISO 25178高度參數(shù) |
“A未處理” |
“A已處理” | |
---|---|---|---|
Sp(µm) |
最高峰高度 |
62.52 |
82.14 |
Sv(µm) |
最深的坑 |
74.41 |
65.34 |
Sz(µm) |
Sp+Sv之和 |
136.93 |
147.49 |
Sa(µm) |
高度絕對值的算術(shù)平均值 |
12.06 |
11.05 |
高放大倍率(20×物鏡)下成像的表面區(qū)域面積為2.92×1.71mm。被分析表面的3D圖像(見圖8)以及粗糙度參數(shù)(見表3),均表明兩種瓷磚A樣品(已處理和未處理)具有類似的紋理。
圖8:瓷磚A未處理和已處理樣品表面一個區(qū)域的帶Z范圍比色刻度尺的3D共聚焦顯微鏡圖像(20×物鏡):“A未處理”[2.9mm×1.7mm×62.9μm](a)和“A已處理”[2.9mm×1.7mm×68.6μm](b)。 |
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表3:圖8所示瓷磚A未處理或已處理樣品表面的一些涉及高度的粗糙度參數(shù)值(高斯截止濾光片:0.25mm)。
ISO 25178高度參數(shù) |
“A未處理” |
“A已處理” | |
---|---|---|---|
Sp(µm) |
最高峰高度 |
36.71 |
39.83 |
Sv(µm) |
最深的坑 |
26.16 |
28.78 |
Sz(µm) |
Sp+Sv之和 |
62.87 |
68.61 |
Sa(µm) |
高度絕對值的算術(shù)平均值 |
7.82 |
7.94 |
在共聚焦顯微鏡的最高放大倍率(150×物鏡)下,可以發(fā)現(xiàn)兩種瓷磚A樣品(已處理和未處理)的表面存在形態(tài)差異。“A已處理”樣品表面(見圖9b)上出現(xiàn)具有晶體的區(qū)域,與SEM數(shù)據(jù)(見圖3b)相一致!癆未處理”樣品表面上這些晶體(見圖9a)不明顯,因為它們嵌在非晶相中。
圖9:瓷磚A未處理和已處理樣品表面一個區(qū)域的帶Z范圍比色刻度尺的3D共聚焦顯微鏡圖像(150×物鏡):“A未處理”[84.9×61.6×4μm](a)和“A已處理”[84.9×61.6×8.1μm](b)。 |
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同樣使用10倍物鏡共聚焦顯微鏡拍攝了兩種瓷磚B樣品(“B未處理”和“B已處理”)表面上一個區(qū)域(分別為2.93×2.2mm)的圖像。圖10為“B未處理”樣品(見圖10a)和“B已處理”樣品(見圖10b)的圖像。它們是各區(qū)域表面形貌的三維圖像,其中Z范圍比色刻度尺以微米為單位。通過比較圖像,發(fā)現(xiàn)兩種樣品之間沒有顯著的形態(tài)差異,雖然已處理表面的峰部稍微平緩,換言之,其峰部凸出程度總體上低于未處理表面。
圖10:瓷磚B未處理和已處理樣品表面一個區(qū)域的帶Z范圍比色刻度尺的3D共聚焦顯微鏡圖像(10×物鏡):“B未處理”[2.9mm×2.1mm×56.3μm](a)和“B已處理”[2.9mm×2.2mm×26.6μm](b)。 |
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通過比較圖10中兩個區(qū)域的輪廓圖,可以發(fā)現(xiàn)“B未處理”樣品被檢測峰部的邊界(見圖11a)中度分開并位于高水平處(約33µm),而“B已處理”樣品(見圖11b)則遍布非常不均勻的小區(qū)域。
圖11:圖10a和10b所示瓷磚B未處理和已處理樣品表面區(qū)域的帶Z范圍比色刻度尺的輪廓圖:“B未處理”(a)和“B已處理”(b)。 |
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對兩種樣品表面粗糙度參數(shù)(見表4)進行比較,發(fā)現(xiàn)結(jié)果與3D圖像的結(jié)論相一致:對于所有以高度表示的粗糙度參數(shù),已處理樣品的數(shù)值稍低于未處理樣品。
表4:圖10所示瓷磚A未處理或已處理樣品表面的一些涉及高度的粗糙度參數(shù)值(高斯截止濾光片:0.25mm)。
ISO 25178高度參數(shù) |
“B未處理” |
“B已處理” | |
---|---|---|---|
Sp(µm) |
最高峰高度 |
29.06 |
18.53 |
Sv(µm) |
最深的坑 |
27.08 |
19.75 |
Sz(µm) |
Sp+Sv之和 |
56.14 |
38.28 |
Sa(µm) |
高度絕對值的算術(shù)平均值 |
1.85 |
1.69 |
再次在共聚焦顯微鏡的最高放大倍率(150×物鏡)下成像,可以發(fā)現(xiàn)兩種瓷磚B樣品(已處理和未處理)與瓷磚A樣品的情形一樣,表面存在形態(tài)差異!癇已處理”樣品表面(見圖12b)上出現(xiàn)具有晶體的區(qū)域!癇未處理”樣品表面上這些晶體(見圖12a)不明顯,因為它們嵌在非晶相中。
圖12:瓷磚B未處理和已處理樣品表面一個區(qū)域的帶Z范圍比色刻度尺的3D共聚焦顯微鏡圖像(150×物鏡):“B未處理”[84.9×61.6×6.3μm](a)和“B已處理”[84.9×61.6×3.3μm](b)。 |
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瓷磚B表面紋理平滑均勻,可以認為防滑處理顯著改變表面粗糙度參數(shù),即處理后平均參數(shù)值減小。
相較于瓷磚B,瓷磚A表面具有更粗糙且不均勻的紋理,在高放大倍率下可以看見酸處理對表面形貌的影響,但表面粗糙度參數(shù)值仍然并未明顯改變。
表5列出按照標準DIN 51130 [7] 所載測試方法測定的防滑性能結(jié)果,從中可知,防滑處理后瓷磚A(表面粗糙、不均勻)無改進,即使滑動角增大1°,防滑等級仍為R9。兩種瓷磚B樣品(表面較均勻、光滑)的結(jié)果表明,即便進行防滑處理之后,該類瓷磚也不適合用于滑倒風(fēng)險大的工作場所。對于赤腳走在濕表面上的情形,比如在游泳池區(qū)、淋浴或洗浴設(shè)施中,按照標準DIN 51097 [8] 所述方法進行的測試表明,處理后兩種瓷磚均達到最佳防滑等級A+B+C,而未處理樣品不可分類(UC)。但數(shù)據(jù)似乎表明,瓷磚的防滑性能更依賴于所使用的潤滑劑和瓷磚表面的化學(xué)組成,而對表面粗糙度的依賴程度較低。
表5:根據(jù)DIN 51130和DIN 51097對瓷磚A和B已處理和未處理樣品進行測試所獲得的防滑性能結(jié)果。
樣品 |
測試方法 |
平均滑動角(°) |
防滑性能組 |
---|---|---|---|
“A未處理” |
DIN 51130 |
6 |
R9 |
“A已處理” |
7 |
R9 | |
“B未處理” |
0 |
UC | |
“B已處理” |
0 |
UC | |
“A未處理” |
DIN 51097 |
8 |
UC |
“A已處理” |
33 |
A+B+C | |
“B未處理” |
11.7 |
UC | |
“B已處理” |
35 |
A+B+C | |
說明: |
結(jié)論
本報告研究了兩種瓷磚:瓷磚A表面不均勻、粗糙,而瓷磚B表面均勻、光滑。兩種釉面瓷磚具有類似的化學(xué)和礦物組成。用于修飾其表面的酸蝕防滑處理法似乎適合這類釉面瓷磚。它在濕(水)表面上應(yīng)用時效果尤其明顯,可使瓷磚A和B樣品的防滑性能顯著增強。此外,防滑處理并未影響瓷磚的耐清潔性。這些數(shù)據(jù)表明,所使用的潤滑劑和瓷磚表面的化學(xué)成分對防滑性能的影響比表面粗糙度更大,不過必須進一步開展研究,才能更好地理解這種現(xiàn)象。
瓷磚表面形貌分析顯示,可在微米尺度上檢測到防滑處理引起的表面結(jié)構(gòu)變化。僅僅瓷磚B(紋理光滑均勻)的表面粗糙度出現(xiàn)明顯變化,釉面瓷磚的非晶相蝕刻導(dǎo)致表面形貌總體上變得平緩。
對于這類瓷磚,從微觀結(jié)構(gòu)的角度來看,應(yīng)用處理方法可導(dǎo)致非晶相蝕刻,而結(jié)晶相(石英、斜長石、鋯石、剛玉)無改變。
參考文獻
致謝
本文作者衷心感謝徠卡顯微系統(tǒng)的 James DeRose 對結(jié)果作出的相關(guān)討論和評論,以及對稿件的校對工作。