為什么純水標(biāo)準(zhǔn)對硅的含量有要求
目前比較通用的純水標(biāo)準(zhǔn)包括ISO 3696-1995、ASTM D1193-2011、GB6682-2008、GB/T33087-2016、GB/T11446-2013。這些標(biāo)準(zhǔn)都明確規(guī)定了超純水的硅含量要低于一定的值，不同純水級別對硅含量的要求見表1。
表1 不同純水級別對硅含量的要求
為什么要檢測超純水中硅的含量？
1、硅的來源廣
硅在自然界分布很廣，在地殼中的原子百分含量為16.7%，以石英砂和硅酸鹽的形成存在。土壤、黏土和砂子是天然硅酸鹽巖石風(fēng)化后的產(chǎn)物，可以說，硅無處不在。純水的進(jìn)水一般都來源自來水，自來水中溶解了部分來源豐富的硅酸鹽。有人會說，Na+、Cl- 來源更廣，為什么還要檢測Si呢？那是因為硅酸是一種非常弱的酸，pKa為9.5，在水中不易電離，不能通過常規(guī)的水純化技術(shù)有效地除去。
2、應(yīng)用需求高
在電子工業(yè)用水和進(jìn)行ppt級的痕量分析實驗用水都要求將超純水的硅含量降到最低。在半導(dǎo)體/FPD工藝中,超純水中硅的濃度會給產(chǎn)品精度、成品率和原材料利用率帶來很大影響。在進(jìn)行ppt級的痕量分析中，硅作為一種弱電離離子，其含量的變化對電阻率的影響甚小，所以不容易被發(fā)覺。
在現(xiàn)有純化技術(shù)中， RO對硅的去除率可以達(dá)到80%，EDI對硅的去除率可以達(dá)到99%[1]。用帶有EDI模塊的純水機(jī)更適合為硅含量要求高的實驗供水。
3、硅是評價水機(jī)純化性能的重要指標(biāo)
（1）硅是評價離子交換樹脂吸附效果的重要依據(jù)
離子交換樹脂與硅的交換效率極易飽和，所以，硅是體現(xiàn)純水機(jī)純化柱質(zhì)量好壞的標(biāo)準(zhǔn)之一。常規(guī)超純水機(jī)離子交換樹脂在壽命期內(nèi)，硅是合格的。但是，在耗材使用接近末期，硅是最先穿透離子交換柱進(jìn)入產(chǎn)水的離子，在電阻率急劇下降前，就會出現(xiàn)這種硅穿透現(xiàn)象。在純化柱將被耗盡的最后時刻，大量的硅會在短時間內(nèi)溶出到產(chǎn)水中。
而且，硼穿透離子交換樹脂也與溶解硅有很大的關(guān)聯(lián)[2]。如果水機(jī)的純化柱吸附效果差，是很難保證水中的硅離子被去除。
（2）硅是水機(jī)純化能力的重要評價指標(biāo)
檢測超純水的硅含量可以評價水機(jī)的整體純化性能，尤其新安裝運行的水機(jī)，如果硅含量不達(dá)標(biāo)，說明水機(jī)各個純化模塊的填料配比、流路設(shè)計不科學(xué)、不合理。
權(quán)威機(jī)構(gòu)的驗證是衡量產(chǎn)品質(zhì)量的重要依據(jù)，上海樂楓Genie 系列高端智能純水系統(tǒng)的水質(zhì)參數(shù)都通過了計量檢測中心的檢測,包括GB6682-2008、GB/ T 33087-2016和ASTM D1193-2006（2011）等標(biāo)準(zhǔn)要求。
[1] 聞瑞梅, 鄧守權(quán), 張亞峰, et al. 半導(dǎo)體工藝用高純水中硅、硼的去除[J]. 電子學(xué)報, 2005, 33(2):197-199.
[2] Malhotra, S.; Chan, O.; Chu, T.; Fuckso, A.; “Correlation of Boron Breakthrough Versus Resistivity and Dissolved Silica in RO/DI System”, Ultrapure Water May/June 1996 pp 22-25. (1996)
[2] Malhotra, S.; Chan, O.; Chu, T.; Fuckso, A.; “Correlation of Boron Breakthrough Versus Resistivity and Dissolved Silica in RO/DI System”, Ultrapure Water May/June 1996 pp 22-25. (1996)
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