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推動高功率UVC-LED晶圓進(jìn)入低成本4英寸時(shí)代的應(yīng)變調(diào)控策略

瀏覽次數(shù):349 發(fā)布日期:2024-9-12  來源:本站 僅供參考,謝絕轉(zhuǎn)載,否則責(zé)任自負(fù)
推動高功率UVC-LED晶圓進(jìn)入低成本4英寸時(shí)代:應(yīng)變調(diào)制的影響
北京大學(xué)王新強(qiáng)教授

導(dǎo)讀
北京大學(xué)王新強(qiáng)教授團(tuán)隊(duì)研究報(bào)告了一種4英寸無裂紋高功率UVC-LED晶圓的制備,這一成就依賴于一種提出的應(yīng)變調(diào)控策略,即在高溫退火(HTA)-AlN模板上的AlN同質(zhì)外延過程中引入三維到二維(3D-2D)過渡層,成功地將原始的壓應(yīng)變轉(zhuǎn)變?yōu)槔瓚?yīng)變,從而解決了實(shí)現(xiàn)具有平坦表面的高質(zhì)量AlGaN層的挑戰(zhàn)。今天小編為大家分享該研究成果,希望對您的科學(xué)研究或工業(yè)生產(chǎn)帶來一些靈感和啟發(fā)。

應(yīng)用方向:AIN,4英寸,高溫退火,UVC-LED,應(yīng)變調(diào)制

研究背景與目的
 
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隨著COVID-19疫情的爆發(fā),全球?qū)τ谧贤饩C(UVC)發(fā)光二極管(LED)的需求急劇增加,因其在病原體滅活方面,特別是在抗擊COVID-19中顯示出巨大的應(yīng)用潛力。然而,目前UVC-LED的外延晶圓尺寸僅限于2英寸,這大大增加了大規(guī)模生產(chǎn)的成本。

北京大學(xué)王新強(qiáng)教授團(tuán)隊(duì)通過應(yīng)變調(diào)控策略,即在4英寸高晶體質(zhì)量HTA-AlN模板上引入3D-2D過渡層,成功地將原始的壓應(yīng)變調(diào)整為拉應(yīng)變,而不犧牲外延過程中的晶體質(zhì)量。這項(xiàng)工作將通過利用低成本的4英寸HTA-AlN模板促進(jìn)UVC-LED的普及,特別是考慮到其與當(dāng)前基于GaN的藍(lán)光LED工藝的兼容性。該工作以“Drive high power UVC-LED wafer into low-cost 4-inch era: effect of strain modulation”為題發(fā)表在著名期刊ADVANCED FUNCTIONAL MATERIALS上。
 
研究方法概述

研究者通過物理氣相沉積(PVD)沉積的500納米厚AlN薄膜的外部高溫再結(jié)晶過程進(jìn)行4英寸高質(zhì)量AlN模板的制備。為了比較,通過金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)在NPSS上生長了具有孔型圖案的4英寸AlN模板(AlN/NPSS),并通過執(zhí)行ELOG技術(shù)。在UVC-LED外延之前,在兩種AlN模板上通過MOCVD同質(zhì)外延生長了200納米厚的AlN再生長層,以確保后續(xù)UVC-LED外延的新鮮表面。
 

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圖1.(Color onine)a)AIN/NPSS,B)AIN/平坦藍(lán)寶石襯底,c)HTA-AIN模板制備方案,呈現(xiàn)不同類型的內(nèi)應(yīng)力;d )AIN/NPSS和e)HTA-AIN(105)面RSM的X射線行射。無應(yīng)變(105)面AIN的衍射峰為星形。
 

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圖2.HTA AIN上的UVC-LED晶片的光學(xué)顯微鏡圖像a)沒有和c)具有3D-2D過渡層。在AIN再生長后的HTA-AIN的原子力顯微鏡圖像b)沒有和d)具有3D-2D過渡層。在HTA-AIN模板上的UVC-LED結(jié)構(gòu)的X射線(105)面RSM e)沒有和 f)具有3D-2D過渡層。行射圖案加寬通常被認(rèn)為是AIGaN層質(zhì)量的獨(dú)特參考。從n-AIGaN和AIN RSM的峰位置,弛豫比計(jì)算為30%和9%,在沒有和h)具有3D-2D過渡層的HTA-AIN上生長的UVC-LED的原位405nm反射率曲線。UVC-LED外延中相應(yīng)的不同階段用虛線標(biāo)記:區(qū)域I(AIN再生長)、區(qū)域II(AIGaN緩沖層)、區(qū)域III(n-AIGaN層)和區(qū)域IV(MQW和p型區(qū)域)。
 

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圖3.(彩色在線)a)示意圖和b)HTA-AIN上3D-2D過渡層生長過程的相應(yīng)原位405 nm反射率曲線。紅色虛線是眼睛捕捉反射率曲線的平均強(qiáng)度趨勢的指引。c)應(yīng)變剪裁HTA-AIN模板的X射線(105)面響應(yīng)面。應(yīng)變變化的痕跡由白色虛線箭頭標(biāo)記。
 

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圖4.(彩色在線)a)在4英寸應(yīng)變改性HTA-AIN模板上通過MOCVD制備的UVC-LED結(jié)構(gòu)的示意圖;b)UVC-LED以及MQW區(qū)域的HAADFSTEM圖像,觀察到5周期MQW區(qū)域由2 nm厚的AIGaN威爾斯阱和11 nm厚的AIGaN勢壘組成;c)薄層電阻映射(單位:Ω/sq),d)PL波長映射(單位:nm)和e)應(yīng)變定制的HTA-AIN模板上的4英寸UVC-LED晶片的EL的照片;f)HTA-AIN模板上的倒裝芯片UVC-LED的波長相關(guān)EL和g)作為電流的函數(shù)的輸出功率。

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https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/adfm.202112111?af=R

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本文中圖4 c)薄層電阻映射,通過非接觸式薄片電阻LEl-1510測量,以證明電性能的均勻性。

Semilab品牌的LEl-1510作為獨(dú)立裝置,可手動加載并自動映射。它可以容納 50-200 毫米的晶圓,三個測量范圍可根據(jù)應(yīng)用需要容納 0.035 至 3200 Ohm/sq。
來源:上海波銘科學(xué)儀器有限公司
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