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技術服務詳細描述
一、掃描電鏡成象原理
掃描電鏡主要用二次電子觀察形貌,成像原理如圖所示。在掃描電鏡中,電子槍發(fā)射出來的電子束,經(jīng)三個電磁透鏡聚焦后,成直徑為幾個納米的電子束。末級透鏡上部的掃描線圈能使電子束在試樣表面上做光柵狀掃描。試樣在電子束作用下,激發(fā)出各種信號,信號的強度取決于試樣表面的形貌、受激區(qū)域的成分和晶體取向。設在試樣附近的探測器把激發(fā)出的電子信號接受下來,經(jīng)信號處理放大系統(tǒng)后,輸送到顯象管柵極以調(diào)制顯象管的亮度。由于顯象管中的電子束和鏡筒中的電子束是同步掃描的,顯象管上各點的亮度是由試樣上各點激發(fā)出的電子信號強度來調(diào)制的,即由試樣表面上任一點所收集來的信號強度與顯象管屏上相應點亮度之間是一一對應的。因此,試樣各點狀態(tài)不同,顯象管各點相應的亮度也必不同,由此得到的象一定是試樣狀態(tài)的反映。放置在試樣斜上方的波譜儀和能譜儀是用來收集X射線,借以實現(xiàn)X射線微區(qū)成分分析的。值得強調(diào)的是,入射電子束在試樣表面上是逐點掃描的,象是逐點記錄的,因此試樣各點所激發(fā)出來的各種信號都可選錄出來,并可同時在相鄰的幾個顯象管上顯示出來,這給試樣綜合分析帶來極大的方便。
掃描電鏡取材要求:
由于電鏡電子束穿透能力的限制,必須把標本切成厚度小于0.1um以下的薄片才適用,這種薄片稱為超薄切片。常用的超薄切片厚度是50-70nm。
在透射電鏡的樣品制備方法中,超薄切片技術是最基本、最常用的制備技術。超薄切片的制作過程基本上和石蠟切片相似,需要經(jīng)過取材、固定、脫水、浸透、包埋聚合、切片及染色等步驟。
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